Čistiaca pena na umývanie "Čistý kyslík" Avon Oxypure

Obohatená o komplex Oxypure Oxygen, bambucké maslo a extrakt z rias, táto čistiaca pena na tvár odstraňuje nečistoty a make-up, pričom obnovuje rovnováhu pokožky. Hĺbkovo čistí a udržuje rovnováhu pleti, zmatňuje a nevysušuje. Aktívne zložky vo svojej receptúre pomáhajú zvyšovať množstvo kyslíka v kožných bunkách, čím prinavrátia pleti žiarivý a zdravý vzhľad. Pena zároveň dobre hydratuje pokožku a obnovuje jej rovnováhu.

Výhody čistiacej peny Avon Oxypure Pure Oxygen:

- má jemnú zmatňujúcu receptúru, ktorá hĺbkovo čistí pokožku bez jej vysušenia;
- rozpúšťa znečistenie, nečistoty a make-up;
- zvyšuje hladinu kyslíka v bunkách a hydratuje pokožku;
- zanecháva pleť dokonale čistú, žiarivú a v rovnováhe.